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扫描电子显微镜

Verios XHR SEM 的半导体应用

最好的低电压 SEM 分辨率和材料对比度

Verios 旨在增加您实验室的可发表成果。在半导体和数据存储市场,Verios 前所未有的高性能扩展了扫描电子显微镜 (SEM) 的功能,使之进入亚 20 nm 半导体设备时代。通过 Verios,半导体过程控制实验室能够测量由于太小而无法由传统 SEM 仪器成像的射束敏感材料和结构。Verios 还具备新的易用功能,能够以极低的单位样品成本对 22 nm 节点及以下的半导体结构进行成像和度量。Verios XHR SEM 为基础研究、过程和材料开发、过程控制及失效分析提供整套解决方案。它提供准确、可重复的测量结果,即使是极度敏感的材料也不例外。Verios 与 FEI 的 IC3D™ 度量软件相结合,可提供控制技术开发过程所需的精确测量。




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了解极高分辨率 SEM

Verios 是 FEI 领先的 XHR SEM 系列的第二代产品,通过 1 到 30 kV 能量范围的亚纳米级分辨率来提供准确成像。它能够在多种应用领域内提供精确测量材料所需的出色对比度,而不影响高通量、分析功能、样品灵活性和传统 SEM 的易用性。Verios 具备独特技术,例如可提高热稳定性的恒功率镜头以及可提高偏转线性的静电扫描。在选择参数、处理大样品或支持更多应用(如分析或光刻)方面,它极为灵活。借助 Verios XHR SEM,无论是临时用户还是专家,都能在最短时间内获得准确、完整的纳米量级数据,发现以前使用其他技术时无法获得的信息。

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Verios XHR SEM 数据表

Verios 是 FEI 领先的 XHR SEM 系列的第二代产品,提供整个 1 keV 到 30 keV 能量范围的亚纳米分辨率以及出色的材料对比度。

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